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반도체가스 (Gases for Semicoductor Fabrication Process) |
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반도체용 가스는 반도체의 특성을 만들기 위한 DOANT, ETCHANT, REACTANT, REACTANT, PURGE가스 등으로 구분되며 그 종류가 다양하고 대부분 독성이며, 높은 순도를 요구 합니다.
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● 주요반도체용 특수가스의 종류 및 특성
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| 종류 |
몰중량 |
냄새 |
공기중 발화력(%) |
독성(ppm) |
부식성 |
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| SiH4 |
32.118 |
불쾌한 냄새 |
자연발화 |
1.35~ |
O |
5 |
X |
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| SiF4 |
104.08 |
자극적 냄새 |
비연소성 |
- |
O |
2.5(mgF)/m2 |
O |
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| PH3 |
34 |
고기썩는 냄새 |
자연발화 |
1.32~ |
O |
0.3 |
X |
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| BF3 |
67.82 |
자극적 냄새 |
비연소성 |
- |
O |
0.3 |
O |
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| NF3 |
71 |
무취 |
지연성 |
- |
O |
10 |
X |
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| SF3 |
146.05/td>
| 무취 |
비연소성 |
- |
X |
1000 |
X |
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| WF6 |
279.84 |
자극적 냄새 |
비연소성 |
- |
O |
2.5(F)/m2 |
O |
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| HCI |
36.46 |
자극적 냄새 |
비연소성 |
- |
O |
5 |
O |
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| C2F6 |
138.012 |
무취 |
비연소성 |
- |
X |
|
X |
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| CIF3 |
92.45 |
불쾌한 냄새 |
지연성 |
- |
O |
0.1 |
O |
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| NH3 |
17.03 |
자극적 냄새 |
지연성 |
15.5~27 |
O |
25 |
O |
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● 용도
- 반도체 제조산업
- 반도체 제조 연구용
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